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晶圓激光退火
激光退火設備用于離子注入工藝之后,進(jìn)行退火,以消除晶格缺陷和消除硅結構的晶格損傷,提高晶片的結晶質(zhì)量,對運動(dòng)臺的精度和低速運動(dòng)時(shí)的速度波動(dòng)性有更高要求。
  • 項目需求
    激光退火設備用于離子注入工藝之后,進(jìn)行退火,以消除晶格缺陷和消除硅結構的晶格損傷,提高晶片的結晶質(zhì)量,對運動(dòng)臺的精度和低速運動(dòng)時(shí)的速度波動(dòng)性有更高要求。

  • 解決方案

    雅科貝思提供高性能XYZ雙驅龍門(mén)運動(dòng)平臺,及高性能控制系統的整套打包解決方案。在激光退火過(guò)程中,雅科貝思龍門(mén)平臺具有高精度和運動(dòng)穩定性。

    XYZ軸均采用Akribis專(zhuān)利設計AUM系列的無(wú)鐵芯直線(xiàn)電機,無(wú)齒槽效應,這本身就保障了低速運動(dòng)時(shí)更高的穩定性;采用特殊光柵尺,實(shí)現更高的精度和更低的熱膨脹系數;配套高性能運動(dòng)控制器,其優(yōu)化的龍門(mén)算法可以在很大程度上地將龍門(mén)平臺的性能發(fā)揮優(yōu)勢。


  • 主要參數

    請咨詢(xún)cust-service@akribis-sys.cn                                

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